在等離子體清洗工藝當(dāng)中，影響清洗效率的參數(shù)主要有以下幾個(gè)方面：
（1）放電氣壓：對于低壓等離子體，放電氣壓增加，等離子體密度越高，電子溫度隨之降低。而等離子體的清洗效果取決于其密度和電子溫度兩個(gè)方面，如密度越
高清洗速率越快、電子溫度越高清洗效果越好。因此，放電氣壓的選擇對低壓等離子體清洗工藝至關(guān)重要。
（2）氣體種類：待處理物件的基材及其表面污染物具有多樣性，而不同氣體放電所產(chǎn)生的等離子體清洗速度和清洗效果又相差甚遠(yuǎn)。因此應(yīng)該有針對性地選擇等離子體的工作氣體，如可選用氧氣等離子體去除物體表面的的油脂污垢，選用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層。
（3）放電功率：放電功率增大，可以增加等離子體的密度和活性粒子能量，因而提高清洗效果。例如，氧氣等離子體的密度受放電功率的影響較大。
（4）暴露時(shí)間：待清洗材料在等離子體中的暴露時(shí)間對其表面清洗效果及等離子體工作效率有很大影響。暴露時(shí)間越長清洗效果相對越好，但工作效率降低。并且，過長時(shí)間的清洗可能會對材料表面產(chǎn)生損傷。

（5）傳動速度：對于常壓等離子體清洗工藝，處理大物件時(shí)會涉及連續(xù)傳動問題。因此待清洗物件與電極的相對移動速度越慢，處理效果越好，但速度過慢一方面影響工作效率，另一方面也可能造成處理時(shí)間過長產(chǎn)生材料表面損傷。
（6）其他：等離子體清洗工藝中的氣體分配、氣體流量、電極設(shè)置等參數(shù)也會影響清洗效果。因此需要根據(jù)實(shí)際情況和清洗要求設(shè)定具體的、適合的工藝參數(shù)。等離子體清洗技術(shù)在復(fù)合材料領(lǐng)域中的應(yīng)用，不論是用于改善復(fù)合材料的界面性能，提高液體成型工藝中樹脂對纖維表面的潤濕性能，還是用于清除制件表面污染層以提高涂裝性能，或是改善多個(gè)制件之間的膠接性能，其可靠性大多是依賴于低溫等離子體對材料表面物理以及化學(xué)性能的改善作用，去除弱界面層，或是增加粗糙度、提高化學(xué)活性，進(jìn)而增強(qiáng)兩個(gè)表面之間的浸潤與粘結(jié)性能。
       隨著低溫等離子體技術(shù)的日益成熟，以及清洗設(shè)備尤其是常壓條件下在線連續(xù)等離子體裝置的開發(fā)，清洗成本不斷降低，清洗效率可進(jìn)一步提高；等離子體清洗技術(shù)本身具有便于處理各種材料、綠色環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。因此，在精細(xì)化生產(chǎn)意識逐漸提高的同時(shí)，先進(jìn)的清洗技術(shù)在復(fù)合材料領(lǐng)域中的應(yīng)用必然會更加普及。