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CRF plasma 等離子清洗機

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plasma設備去除印刷版膠體和深入微孔中清洗

plasma設備去除印刷版膠體和深入微孔中清洗:
       鑒于HDI板孔徑比較小,常規的化學反應加工工藝不能滿足對盲孔結構的清潔標準,液體表面張力導致藥液無法滲入孔洞中,特別是在當激光鉆入微盲孔時,其可靠性較差。
       現階段微埋盲孔的孔徑清洗加工工藝主要分為超聲波清洗和plasma設備清洗效應,設備清洗和超聲波清洗主要是為了達到清洗的目的。應屬濕法處理,清洗時間久,在于清洗液的去污性能,增加了處理廢液的難度。

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       現階段,在線等離子體清洗設備技術主要采用廣泛的技術。等離子體加工工藝簡單,環保,清洗效果明顯,對盲孔結構非常有效。等離子體清洗是指在電場作用下定向移動的高活化等離子體,與孔壁鉆孔污垢發生氣體固化反應,部分未反應氣體產物和顆粒通過泵泵排出。
        plasma設備在HDI在清洗板材盲孔的過程中,等離子體一般分為三個階段高純度N2.生產等離子體,同時預熱印刷板,使聚合物材料處于一定的活化狀態;第二階段,為O2.CF4.混合后產生的原始氣體O.F丙烯酸等離子體.PI.FR4.玻璃纖維等反應,達到凈化效果;第三階段,O2.原始氣體O.F保持孔壁清潔是一種殘留反應。
        plasma設備除了等離子化學反應外,設備清洗加工工藝還與材料表面發生了物理反應。材料表面的原子或附著材料表面的原子或附著的原子,有利于清潔蝕刻反應。隨著材料和技術的發展,埋盲孔結構的實現將越來越小、精細;采用傳統的化學印刷方法,電鍍盲孔越來越困難,在線等離子體清洗設備等離子體處理方法,可以克服濕渣的缺點,實現盲孔和細孔的良好清洗,確保電鍍盲孔的良好效果。


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